石墨烯具有较大的离域π键和比表面积,显示了优异的光、电和力学性能,在能源、环境、医学、电子信息等领域具有巨大的应用前景。由于层间π-π堆叠作用和范德华力,石墨烯易团聚,导致本征性能下降。在石墨烯的边缘选择性引入羟基、羧基等含氧官能团既可提高其分散性,又能使其面内共轭结构不受破坏,保持其本征性能。干法球磨机械化学法已被用于制备边缘功能化石墨烯,其原理为利用球磨机械效应破坏石墨中的碳-碳键断裂形成相应的碳(离子)自由基,进而与干冰、草酸、SO3等磨剂反应,在碳自羧由基上引入羟基或磺酸基。由于石墨C-C键能(710 kJ mol−1)较大,采用上述“惰性”磨剂共磨不仅耗时(12-48 h)、耗能(转速500 rpm),而且其共轭结构不可避免地被部分破坏,因此,制得的石墨烯后续仍需采用600 °C以上的高温热处理以提升其导电性。
Cuiyu Huang, Jin Lin, Heqing Tang, Qin Wang, Tetsuro Majima, Nan Wang, Zhihong Luo, Lihua Zhu
ChemSusChem
DOI: 10.1002/cssc.202201496